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隨州論壇

標(biāo)題: 晶星科技主導(dǎo)編制兩項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn) [打印本頁]

作者: 寧寧 時間: 2020-8-11 09:18
標(biāo)題: 晶星科技主導(dǎo)編制兩項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)
　隨州論壇訊（全媒記者張琴、通訊員胡春雷、朱荔）日前，國家市場監(jiān)管總局發(fā)布了2020年第17號中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)公告，由我市湖北晶星科技股份有限公司歷時四年主導(dǎo)起草編制的《電子工業(yè)用二氯硅烷》《電子工業(yè)用四氯化硅》兩項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)正式發(fā)布，將于2021年2月1日實(shí)施。
　　該兩項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)布實(shí)施，填補(bǔ)了我國兩類電子工業(yè)用氣體的標(biāo)準(zhǔn)空白，將為提高我國自主生產(chǎn)電子工業(yè)用氣體的能力，促進(jìn)先進(jìn)半導(dǎo)體材料制造業(yè)的迅速發(fā)展，提供技術(shù)依據(jù)和可靠保障，對有效提高企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)話語權(quán)和知名度、提升企業(yè)核心競爭力也具有十分重要的意義。
　　據(jù)了解，高純二氯硅烷主要用于電子半導(dǎo)體、集成電路工業(yè)中硅外延及集成電路上氮化硅掩蔽膜和多晶硅膜等含硅薄膜的制備，是一種性能極佳的外延淀積材料；高純四氯化硅是光纖、光電傳感器生產(chǎn)的主原料，也用于集成電路的刻蝕工藝以及存儲器的薄膜工藝。受標(biāo)準(zhǔn)缺乏等因素制約，國內(nèi)這兩種產(chǎn)品的產(chǎn)能較小，主要依賴進(jìn)口，無法滿足集成電路產(chǎn)業(yè)市場龐大的需求。
　　為適應(yīng)先進(jìn)半導(dǎo)體材料的迅速發(fā)展，提高我國自主生產(chǎn)電子工業(yè)用氣體的能力，晶星科技2016年向國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會提出申請并立項(xiàng)，由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員氣體分會組織成立了標(biāo)準(zhǔn)起草小組，由晶星科技主導(dǎo)起草編制工作。
　　市市場監(jiān)管局對兩項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的起草編制工作高度重視，全程做好跟蹤服務(wù)，最終通過標(biāo)準(zhǔn)審查，兩項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)達(dá)到了國際同類產(chǎn)品先進(jìn)水平。該局有關(guān)負(fù)責(zé)人表示，將堅決落實(shí)省、市關(guān)于加大力度優(yōu)化營商環(huán)境、以“店小二”精神支持服務(wù)市場主體發(fā)展的各項(xiàng)舉措，推動隨州企業(yè)有更多的標(biāo)準(zhǔn)話語權(quán)和競爭力，為隨州高質(zhì)量發(fā)展貢獻(xiàn)力量。

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